2nm：半導(dǎo)體企業(yè)的一場(chǎng)創(chuàng)新競(jìng)賽正在上演

2023-04-27 14:55:59 編輯：懷佳唯來(lái)源：

導(dǎo)讀關(guān)于2nm的討論一直不斷，為了能夠高效發(fā)展2nm制程，晶圓廠蓄勢(shì)待發(fā)，芯片制造設(shè)備公司將這個(gè)全新的2nm芯片技術(shù)也規(guī)劃在日程發(fā)展當(dāng)中。截止...

關(guān)于2nm的討論一直不斷，為了能夠高效發(fā)展2nm制程，晶圓廠蓄勢(shì)待發(fā)，芯片制造設(shè)備公司將這個(gè)全新的2nm芯片技術(shù)也規(guī)劃在日程發(fā)展當(dāng)中。

截止目前為止2nm技術(shù)行業(yè)最有發(fā)言權(quán)的是臺(tái)積電，這項(xiàng)新技術(shù)也是整個(gè)行業(yè)期待的代工市場(chǎng)轉(zhuǎn)折點(diǎn)。技術(shù)的核心應(yīng)該會(huì)在2025年開始，在結(jié)構(gòu)方面選擇GAA。

臺(tái)積電早在2022年正式公布2nm制造技術(shù)，表示會(huì)在2025年開始正式投產(chǎn)，而且也將會(huì)成為臺(tái)積電，第1個(gè)使用其基于納米技術(shù)的三級(jí)全方位場(chǎng)效應(yīng)的結(jié)點(diǎn)晶體管。全新的技術(shù)可以幫助臺(tái)積電降低產(chǎn)品的功耗，相同功耗使用這項(xiàng)技術(shù)性能可以提升10%~15%。三星對(duì)于3納米技術(shù)的時(shí)間規(guī)劃與臺(tái)積電基本一致，將在2025年開始生產(chǎn)。三星計(jì)劃在2027年會(huì)大規(guī)生產(chǎn)1.4納米的芯片。

標(biāo)簽：半導(dǎo)體企業(yè)，創(chuàng)新競(jìng)賽