三星芯片業(yè)務(wù)或迎來(lái)逆風(fēng)翻盤(pán)

此前有消息稱，蘋(píng)果已經(jīng)拋棄了三星制程的芯片，僅向臺(tái)積電支付可用芯片的相關(guān)費(fèi)用，消息一出便引起業(yè)內(nèi)的廣泛關(guān)注，人們普遍認(rèn)為三星芯片業(yè)務(wù)正在面臨低谷。近日有消息傳來(lái)，三星4納米芯片良率水平已經(jīng)追平臺(tái)積電，在3納米芯片的制程工藝上已經(jīng)提升良率到60%以上，加上此前高通驍龍8系列的處理器傳出消息或許會(huì)采用三星代工，這些消息的傳來(lái)，似乎預(yù)示著三星將迎來(lái)的逆翻盤(pán)的機(jī)會(huì)。

自從2019年開(kāi)始，三星就被光刻膠扼住了喉嚨，這也稱為三星芯片良率較低的關(guān)鍵因素，根據(jù)中國(guó)科學(xué)院微電子所副所長(zhǎng)曹立強(qiáng)的介紹，光刻膠是芯片光刻中所采用的一種關(guān)鍵材料，這種光刻膠使用之后并不會(huì)存留在芯片內(nèi)部。但是光影刻膠純度會(huì)影響到圖形的解析能力，后續(xù)會(huì)影響到整個(gè)芯片的性能，所以光刻膠的質(zhì)量與純度就是影響芯片良率的關(guān)鍵所在。

2019年的時(shí)候，韓國(guó)有80%的光刻膠是從日本進(jìn)口，對(duì)這方面的依賴率非常高。有業(yè)內(nèi)專家人士向媒體表示，三星對(duì)日本的光刻膠十分依賴，主要是由于十納米以下制程的芯片基本只能夠采用日本做的光刻膠，截止到2019年的七月份。日本政府開(kāi)始宣布對(duì)韓國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)材料進(jìn)行出口管制，光刻膠也在這一次的管制名單中，這一舉毫無(wú)疑問(wèn)給三星半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)帶來(lái)了沉重一擊。

光刻膠方面被卡脖子后，三星便頻頻爆出芯片良率低于50%的消息，甚至四納米芯片的良率被曝出僅有百分之35。此前搭載三星四納米工藝的高通驍龍第八代芯片也中途換成了臺(tái)積電四納米工藝，甚至在三納米制程工藝上，搶先臺(tái)積電生產(chǎn)的三星三納米工藝制程，良品率也僅為10%到20%左右。此次消息稱，三星3納米芯片和4納米芯片的生產(chǎn)良品率分別提升到60%和75%以上，或許是和三星重新采用日本光刻膠有著非常緊密的關(guān)系。