納米壓印與光刻技術(shù)互補(bǔ) 站在世界水平

2023-11-27 15:01:36 編輯：司馬啟河來源：

導(dǎo)讀佳能從2004年開始就探索納米壓印技術(shù)，在2017年推出首臺(tái)樣機(jī)。目前這個(gè)樣機(jī)可以實(shí)現(xiàn)最小線寬14納米的圖案化，相當(dāng)于當(dāng)下生產(chǎn)最先進(jìn)的邏輯半...

佳能從2004年開始就探索納米壓印技術(shù)，在2017年推出首臺(tái)樣機(jī)。目前這個(gè)樣機(jī)可以實(shí)現(xiàn)最小線寬14納米的圖案化，相當(dāng)于當(dāng)下生產(chǎn)最先進(jìn)的邏輯半導(dǎo)體所需的5納米制程。佳能推出全新的設(shè)備之后，通過納米壓印技術(shù)，可能會(huì)實(shí)現(xiàn)彎道超車。

當(dāng)下的納米壓印技術(shù)已經(jīng)在大批量生產(chǎn)上取得了巨大的進(jìn)步，但仍然存在著各種各樣的問題，比如結(jié)構(gòu)均勻性與分辨率，缺陷率控制，模板壽命等等。納米壓印技術(shù)只能夠用于對(duì)精度要求不太高的芯片，生產(chǎn)過程中的一些步驟也無法使用到這項(xiàng)技術(shù)。在光刻技術(shù)越來越艱難的情況下，納米壓印光刻也成為之后發(fā)展的一縷曙光。佳能雖然有先發(fā)優(yōu)勢(shì)，但是與我國的納米壓印技術(shù)相比并沒有強(qiáng)多少。國內(nèi)也有很多的科研公司正在研發(fā)納米壓印技術(shù)，在專利布局上僅次于美國。