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佳能從2004年開始就探索納米壓印技術(shù),在2017年推出首臺(tái)樣機(jī)。目前這個(gè)樣機(jī)可以實(shí)現(xiàn)最小線寬14納米的圖案化,相當(dāng)于當(dāng)下生產(chǎn)最先進(jìn)的邏輯半
對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)而言,光刻技術(shù)和相應(yīng)的設(shè)備發(fā)揮著至關(guān)重要的作用,光刻設(shè)備是把設(shè)計(jì)好的圖形從模板中轉(zhuǎn)印到晶圓表面的光刻膠上所采用的一種技
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