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7月23日開始,日本針對尖端半導(dǎo)體制造設(shè)備的出口管制措施已經(jīng)正式開始生效。此次生效的管制產(chǎn)品總共有六大類23種設(shè)備,這些設(shè)備都被納入到出口限制名單中,基本上是覆蓋了芯片光刻和檢測的各種環(huán)節(jié)中。如果各企業(yè)想要讓這些設(shè)備出口,就必須向日本政府申請出口許可證,只有獲得批準(zhǔn)才能夠出口到一些指定的國家和地區(qū)。
此次日本做出的出口限制,主要都是針對一些設(shè)備而言,并沒有對半導(dǎo)體材料方面做出一些限制,此前大家一直擔(dān)心的光刻膠并沒有在此次出口管制措施中進(jìn)入名單。光刻膠作為光刻工藝當(dāng)中非常重要的材料之一,它的純度和質(zhì)量都直接決定了芯片的良品率。雖然日本人并沒有卡死光片膠的出口方面,但是我們也應(yīng)該加快光刻設(shè)備和材料的國產(chǎn)化研制。
不管是哪一個(gè)國家的半導(dǎo)體行業(yè),光刻膠一旦被人斷供,那么可以說是非常要命的事情。比如2019年日本與韓國翻臉,日本停止向韓國出口光刻膠,結(jié)果三星半導(dǎo)體的第一代三納米制程芯片良品率僅有10到20%左右。導(dǎo)致這種情況的最主要原因就是三星的光刻膠材料純度不夠,不過這一點(diǎn)也把韓國人給逼急了。2022年的12月份,三星就宣布了韓國東進(jìn)半導(dǎo)體研發(fā)的euv光刻膠已經(jīng)成功運(yùn)用。
之所以光刻膠會成為卡脖子的關(guān)鍵因素,主要是高端光刻膠需要嚴(yán)格的控制金屬雜質(zhì)含量,想要做到這一點(diǎn)是十分困難的,國內(nèi)的精細(xì)化工方面嚴(yán)重不足,所做出的金屬材料雜質(zhì)含量也比要求大了很多級別。除此之外,高端光刻膠生產(chǎn)的時(shí)候還需要使用反應(yīng)釜,這種材料是需要鍍膜的,國內(nèi)的相關(guān)工藝水平比較低,想要做這一些設(shè)備就需要從國外進(jìn)口。
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